Skip navigation
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://ela.kpi.ua/handle/123456789/18316
Назва: Положение остовного уровня Ge(3d5/2) в зависимости от конфигурации адсорбционных комплексов Ge на грани Si(001)(4×2)
Інші назви: Положення остівного рівня Ge(3d5/2) в залежності від конфігурації адсорбційних комплексів Ge на грані Si(001)(4×2)
Core level position Ge(3d5/2) in dependence of the configuration adsorption Ge complexes on the face of Si(001)(4×2)
Автори: Ткачук, О. И
Теребинская, М. И.
Лобанов, В. В.
Ткачук, О. І.
Теребінська, М. І.
Лобанов, В. В.
Tkachuk, O.
Terebinska, M.
Lobanov, V.
Ключові слова: гетеропереходы
остовные уровни
буклированная поверхность
димеризованная поверхность
гетеропереходи
остівні рівні
букльована поверхня
димеризована поверхня
heterojunctions
core levels
buckled surface
surface dimers
Дата публікації: 2016
Видавництво: НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорського»
Бібліографічний опис: Ткачук, О. И. Положение остовного уровня Ge(3d5/2) в зависимости от конфигурации адсорбционных комплексов Ge на грани Si(001)(4×2) / О. И. Ткачук, М. И. Теребинская, В. В. Лобанов // Комп’ютерне моделювання в хімії і технологіях та системах сталого розвитку – КМХТ-2016 : збірник наукових статей П’ятої міжнародної науково-практичної конференції, 18-20 травня 2016 року, м. Київ. – Київ : НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорського», 2016. – С. 171-176. – Бібліогр.: 6 назв.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): https://ela.kpi.ua/handle/123456789/18316
Розташовується у зібраннях:Секція 3 «Комп'ютерне моделювання в хімії, комп'ютерні методи для синтезу нових речовин»

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Ткачук О.И., Теребинская М.И., Лобанов В.В. .pdf1.24 MBAdobe PDFЕскіз
Переглянути/відкрити
Показати повний опис матеріалу Перегляд статистики


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.