Орлов, Андрій КостянтиновичПальчековський, Олександр Андрійович2025-06-272025-06-272025Пальчековський, О. А. Вплив періоду модуляції на перебіг твердотільних реакцій в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti : дипломна робота ... бакалавра : 132 Матеріалознавство / Пальчековський Олександр Андрійович. – Київ, 2025. – 76 с.https://ela.kpi.ua/handle/123456789/74496Дипломна робота присвячена дослідженню початкових стадій аморфізації границь розділу в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti з різним періодом модуляції у вихідному стані та за умов низькотемпературного нагріву до 150 °С. Для досягнення поставленої мети обʼєктами дослідження є багатошарові нанорозмірні плівкові композиції Ni/Ti з періодами модуляції 20 нм, 30 нм та 60 нм, з загальною товщиною 60 нм, осаджені на підкладку Si(001) методом радіочастотного магнетронного розпорошення. Для визначення структурних та електрофізичних властивостей, напруженого стану використано рентгеноструктурний фазовий аналіз, рентгенографічний аналіз залишкових напружень, in-situ чотирьохзондову резистометрію. Показано, що метод чотирьохзондової резистометрії є ефективним способом аналізу початкових стадій аморфізації границь розділу в тонких плівках Ni/Ti. Встановлено, що зменшення періоду модуляції призводить до зменшення температурного коефіцієнту опору в результаті формування аморфного прошарку. Отримані результати можуть бути використані при розробці функціональних матеріалів для мікро- та наноелектромеханічних систем і нейтронної оптики.76 с.ukаморфізаціяграниці розділуелектричний опірперіод модуляціїтонкоплівкові композиціїamorphizationelectrical resistivityinterfacesmodulation periodthin filmВплив періоду модуляції на перебіг твердотільних реакцій в тонкоплівкових композиціях Ni/TiBachelor Thesis621.785