Петренко, А. И.Молявко, А. С.2013-11-262013-11-262009Петренко А. И. Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии / А. И. Петренко, А. С. Молявко // Вісник НТУУ «КПІ». Інформатика, управління та обчислювальна техніка : збірник наукових праць. – 2009. – № 50. – С. 30–33. – Бібліогр.: 6 назв.https://ela.kpi.ua/handle/123456789/6075ruArticleС. 30-3362-82:658.512.011.56