Сидоренко, С. Б.Бевза, О. М.Сидоренко, Я. С.2021-01-112021-01-112017Сидоренко, С. Б. Технологія отримання розвинутої поверхні у вакуумному реакційному середовищі / Сидоренко С. Б., Бевза О. М., Сидоренко Я. С. // Міжнародна науково-технічна конференція «Радіотехнічні поля, сигнали, апарати та системи» : матеріали конференції, 20-26 березня 2017 р., м. Київ, Україна / КПІ ім. Ігоря Сікорського, РТФ. – Київ : КПІ ім. Ігоря Сікорського, 2017. – С. 247–249. – Бібліогр.: 2 назви.https://ela.kpi.ua/handle/123456789/38606ukрозвинута поверхнятермоіонне осадженнямагнетронне розпиленняреакційний газdeveloped surfacethermionic depositionmagnetron sputteringreactionary gasразвитая поверхностьтермоионное осаждениемагнетронное распылениереакционный газArticleС. 247–249