Кузьмичєв, Анатолій ІвановичСидоренко, Сергій Борисович2026-07-272026-07-272026Мікроелектронні технології. Розрахунок параметрів іонного розпилення та іонної імплантації в програмі TRIM [Електронний ресурс] : рек. до виконання розрахунк. роботи : навч. посіб. для здобувачів ступеня бакалавра за освіт. програмою «Електронні прилади та пристрої» спец. G5 Електроніка, електронні комунікації, приладобудування та радіотехніка / КПІ ім. Ігоря Сікорського ; уклад.: А. І. Кузьмичєв, С. Б. Сидоренко. – Електрон. текст. дані (1 файл: 2,98 Мбайт). – Київ : КПІ ім. Ігоря Сікорського, 2026. – 112 с. – Назва з екрана.https://ela.kpi.ua/handle/123456789/82273У навчальному посібнику наведено стислі теоретичні дані щодо фізики іонного розпилення та імплантації поверхонь мішені прискореними іонами. В розрахунково-графічній частині посібника наведено приклад обчислень параметрів іонного розпилення та іонної імплантацій шляхом траєкторного аналізу руху іонів в тілі мішені. Студентам пропонується зробити власні розрахунки та аналітичні висновки щодо отриманих результатів. Посібник призначений для здобувачів ступеня бакалавр за спеціальністю G5 Електроніка, електронні комунікації, приладобудування та радіотехніка, які вивчають іонне розпилення матеріалів та іонну імплантацію з дисциплін «Мікроелектронні технології», «Технологічні основи електроніки», а також буде корисним фахівцям в галузі модифікації поверхонь та приповерхневих шарів.112 с.ukLearning Object539.10000-0003-0087-275X0000-0002-3109-2011