Комп'ютеризована система моніторингу параметрів електронно-променевого оброблення оптичних компонентів комп’ютерних систем

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorМацепа, С. М.
dc.contributor.authorАнтоненко, С. В
dc.date.accessioned2025-03-25T14:38:48Z
dc.date.available2025-03-25T14:38:48Z
dc.date.issued2024
dc.description.abstractРозроблена комп’ютеризована система моніторингу параметрів електронно-променевого оброблення оптичних компонентів є сучасним рішенням для забезпечення точного контролю технологічних параметрів у реальному часі. Система базується на мікропроцесорному блоці керування, що забезпечує інтеграцію всіх компонентів через CAN-шину та високовольтний оптичний інтерфейс. Основними функціями системи є моніторинг напруги на катоді, модуляторі, струмі розжарення, електронного потоку та коригування цих параметрів у процесі оброблення. Завдяки адаптивному регулюванню система дозволяє досягти стабільності параметрів електронно-променевого оброблення, що підтверджено низьким рівнем відхилень напруги (до ±2%) та рівномірністю нанесення плівкових покриттів (до ±5%). Використання високовольтного оптичного інтерфейсу мінімізує втрати сигналу та підвищує точність передачі даних. Система легко інтегрується з комп’ютерними системами через USB-інтерфейс, забезпечуючи можливість підключення додаткових сенсорів для розширення функціональних можливостей. Результати апробації, проведеної на базі електронно-променевої установки УВН-71, продемонстрували значні переваги системи. Вона дозволяє зменшити дефекти поверхні, підвищити рівномірність оброблення та мінімізувати втрати оптичних матеріалів. Запропоноване рішення є критично важливим для виробництва високоякісних оптичних компонентів, які використовуються в сучасних комп’ютерних системах, забезпечуючи відповідність найсуворішим стандартам якості. Таким чином, розроблена комп’ютеризована система моніторингу сприяє оптимізації процесів електронно-променевого оброблення, підвищенню продуктивності та якості продукції, відкриваючи нові можливості для індустрії оптичних компонентів.
dc.description.abstractotherThe developed computerized monitoring system for the parameters of electron beam processing of optical components represents a cutting-edge solution for ensuring precise real-time control of technological parameters. The system is based on a microprocessor control unit that integrates all components through a CAN bus and a high-voltage optical interface. The primary functions of the system include monitoring the voltage on the cathode and modulator, filament current, and electron beam parameters, as well as adjusting these parameters during the processing. Thanks to adaptive regulation, the system achieves stability in electron beam processing parameters, as evidenced by low voltage deviations (up to ±2%) and uniformity in thin-film coatings (up to ±5%). The use of the high-voltage optical interface minimizes signal loss and enhances data transmission accuracy. The system easily integrates with computer systems via a USB interface, providing the ability to connect additional sensors to expand its functionality. The results of the system's testing, conducted on the UVN-71 electron beam processing unit, demonstrated significant advantages. It reduces surface defects, improves processing uniformity, and minimizes optical material losses. This solution is critically important for the production of high-quality optical components used in modern computer systems, ensuring compliance with the strictest quality standards. Thus, the developed computerized monitoring system facilitates the optimization of electron beam processes, enhancing productivity and product quality while unlocking new opportunities for the optical components industry.
dc.format.pagerangeС. 43-49
dc.identifier.citationМацепа, С. М. Комп'ютеризована система моніторингу параметрів електронно-променевого оброблення оптичних компонентів комп’ютерних систем / Мацепа С. М., Антоненко С. В // Вісник КПІ. Серія Приладобудування : збірник наукових праць. – 2024. – Вип. 68(2). – С. 43-49. – Бібліогр.: 13 назв.
dc.identifier.doihttps://doi.org/10.20535/1970.68(2).2024.318195
dc.identifier.orcid0000-0001-9473-2285
dc.identifier.orcid0000-0001-5711-6758
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/73071
dc.language.isouk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорського
dc.publisher.placeКиїв
dc.relation.ispartofВісник КПІ. Серія Приладобудування : збірник наукових праць, 2024, Вип. 68(2)
dc.rights.uriCreative Commons Attribution 4.0 International License.
dc.subjectкомп'ютеризована система
dc.subjectмоніторинг
dc.subjectелектронно-променеве оброблення
dc.subjectоптичний компонент
dc.subjectмікропроцесорний блок керування
dc.subjectтехнологічний параметр
dc.subjectcomputerized system
dc.subjectmonitoring
dc.subjectelectron beam processing
dc.subjectoptical component
dc.subjectmicroprocessor control unit
dc.subjecttechnological parameter
dc.subject.udc004.4:621.373.826:681.7.068
dc.titleКомп'ютеризована система моніторингу параметрів електронно-променевого оброблення оптичних компонентів комп’ютерних систем
dc.title.alternativeComputerized monitoring system for parameters of electron beam processing of optical components in computer systems
dc.typeArticle

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
318195-739010-1-10-20241225.pdf
Розмір:
477.78 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Зібрання

Вісник КПІ. Серія Приладобудування: збірник наукових праць, Вип. 68(2)