(КПІ ім. Ігоря Сікорського, 2018-05) Чигиринець, Едуард Олександрович; Лінючева, Ольга Володимирівна
Встановлено оптимальні режими проведення хімічного та електрохімічного полірування мідного покриття. Отримано та проаналізовано статистичні дані щодо шорсткості поверхні після хімічних, електрохімічних та механічних обробок. Визначено вплив використання двостадійного процесу
механічного полірування на якість мідної поверхні. Виявлено негативний вплив електрохімічного полірування без перемішування при значних витримках у часі.
Встановлено вплив процесів масопереносну при поліруванні плоских зразків та
модельних 6 ГГц резонаторів.