Моделювання надвисокочастотного генератора плазми

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorПеревертайло, Володимир Володимирович
dc.date.accessioned2020-04-28T13:45:14Z
dc.date.available2020-04-28T13:45:14Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractenResults of 3D simulation of the waveguide resonator tract together with the gas-discharge chamber were presented. On the basis of simulation the geometric parameters of the microwave generator in the matched mode with the maximum transmission of energy from the source of the microwave power to the region where the plasma generation will be obtained is calculated. The calculation was made on the basis of the condition for further combined use of the device with the magnetron sputtering system and it is intended for the activation of inert gas. In this paper, an analysis of the geometrical parameters of the plasma generator, taking into account the calculations, the scheme of the system and the principle of operation of the microwave generator plasma were described. Simulated microwave plasma generator has a wide range of applications, in particular, it can be used in solid surface treatment as an independent device, also as assisting device with the magnetron puttering system (thin-film coatings deposition, modification of the surface layer or its removal), or as part of the source of high-energy neutrals (very important in treatment of dielectric coatings), or in a microwave plasma lighting devices (general and special purposes). Vacuum-plasma methods – one of the most promising methods of coating deposition. Causes of that are their environmental safety, high purity of technological processes and product quality. It was possible to expand the opportunities of the method due to use of magnetron sputtering systems (MSS) and ion sources which generate directed streams of ions (both inert and chemically active) of working gases accelerated to certain energy. This in turn allows us to use them for cleaning of the substrates surface and influence of the ion flow on the coating during its growth to change its structure. Optical coatings are most often thin film dielectric of complex composition in the form of oxides, nitrides, carbides and their combinations, which are applied to the substrate in the reaction gas environment. Activation of gas is especially necessary when the source medium (source) in the form of unreacted metals and semiconductors is used. The best ways to stimulate the synthesis of optical coatings are nonthermal methods – the activation of gas in plasma of an electric discharge, followed by feeding to the substrate surface, its bombardment with gas ions and ultraviolet radiation.uk
dc.description.abstractruПредставлены результаты 3D моделирования волноводно-резонаторного тракта совместно с газоразрядной камерой, путем чего были рассчитаны геометрические параметры СВЧ генератора в согласованном режиме с максимальной передачей энергии от источника СВЧ мощности в область, где будет происходить генерация плазмы. Расчет проводился, исходя из условия дальнейшего совместного использования устройства с системой магнетронного распыления и предназначен он для активации инертного газа. В данной работе представлен анализ составных частей генератора плазмы с учетом расчетов, представлено описание схемы работы системы и принцип работы СВЧ генератора плазмыuk
dc.description.abstractukПредставлено результати 3D моделювання хвилеводно-резонаторного тракту спільно з газорозрядною камерою, шляхом чого було розраховано геометричні параметри НВЧ генератора в узгодженому режимі з максимальною передачею енергії від джерела НВЧ потужності до області, де буде відбуватись генерація плазми. Розрахунок проводився, виходячи з умови подальшого сумісного використання пристрою з системою магнетронного розпилення і призначений він для активації інертного газу. У даній роботі представлено аналіз складових частин генератора плазми з урахуванням розрахунків, опис схеми роботи системи та принцип роботи НВЧ генератора плазми.uk
dc.format.pagerangeС. 16-22uk
dc.identifier.citationПеревертайло, В. В. Моделювання надвисокочастотного генератора плазми / Перевертайло В. В. // Мікросистеми, Електроніка та Акустика : науково-технічний журнал. – 2018. – Т. 23, № 1(102). – С. 16–22. – Бібліогр.: 12 назв.uk
dc.identifier.doihttps://doi.org/10.20535/2523-4455.2018.23.1.105252
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/33097
dc.language.isoukuk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорськогоuk
dc.publisher.placeКиївuk
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/uk
dc.sourceМікросистеми, Електроніка та Акустика : науково-технічний журнал, 2018, Т. 23, № 1(102)uk
dc.subjectнадвисокочастотний генератор плазмиuk
dc.subject3D моделюванняuk
dc.subjectНВЧ трактuk
dc.subjectхвилевідuk
dc.subjectmicrowave plasma generatoruk
dc.subject3D simulationuk
dc.subjectmicrowave pathuk
dc.subjectwaveguideuk
dc.subjectсверхвысокочастотный генератор плазмыuk
dc.subject3D моделированиеuk
dc.subjectСВЧ трактuk
dc.subjectволноводuk
dc.subject.udc621.38uk
dc.titleМоделювання надвисокочастотного генератора плазмиuk
dc.title.alternativeSimulation of microwave plasma generatoruk
dc.title.alternativeМоделирование сверхвысокочастотного генератора плазмыuk
dc.typeArticleuk

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
MEA2018_23-1_p16-22.pdf
Розмір:
904.45 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
9.06 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Мікросистеми, Електроніка та Акустика: науково-технічний журнал, Т. 23, № 1(102)