Оксиди металів для фотовольтаїки, сформовані магнетронним методом

dc.contributor.advisorІващук, Анатолій Васильович
dc.contributor.authorВенгер, Олександр Анатолійович
dc.date.accessioned2020-01-10T10:43:36Z
dc.date.available2020-01-10T10:43:36Z
dc.date.issued2019-12
dc.description.abstractenThe work is spread over 99 pages, it contains 5 sections, 35 illustrations, 24 tables and 36 sources in the list of references. The object of study is thin films of ZnO and ITO oxides. The subject of study is the study of current-voltage, temperature and spectral characteristics of ZnO and ITO thin films, which are formed by the magnetron method, at different technological modes. The purpose of the work is to develop a technological regime of deposition of ZnO and ITO thin films for use in photoelectric converters. The first section provides a literature review that examines the problem of the use of thin films of metal oxides in the form of protective, illuminating and conductive layers for PEC. The second section of the paper provides an overview of the materials that can be used in the form of thin illuminating coatings, as well as their application. The third section describes the physical, chemical and electrochemical methods of optical coatings, their advantages and disadvantages. In the fourth section, the process of obtaining, as well as the results of studies of current-voltage, temperature and spectral characteristics of ZnO and ITO thin films are presented. The fifth section is a startup project to launch large-scale production of thin ITO films for spacecraft.uk
dc.description.abstractukРоботу викладено на 99 сторінках, вона містить 5 розділів, 35 ілюстрації, 24 таблиць і 56 джерел в переліку посилань. Об’єктом дослідження є тонкі плівки оксидів ZnO і ІТО. Предмет роботи – дослідження вольт-амперних, температурних та спектральних характеристик тонких плівок ІТО і ZnO, які сформовані магнетронним методом, при різних технологічних режимах. Мета роботи – розробка технологічного режиму нанесення тонких плівок ZnO і ІТО для застосування їх в фотоелектричних перетворювачах. В першому розділі подано літературний огляд, в якому аналізуються проблеми використання тонких плівок оксидів металів у якості захисних, просвітлюючих і провідних шарів для ФЕП. В другому розділі роботи подано огляд матеріалів, які можна використовувати у вигляді тонких просвітлюючих покриттів, а також їх застосування. В третьому розділі приводяться фізичні, хімічні і електрохімічні методи нанесення оптичних покриттів, їх переваги та недоліки. В четвертому розділі представлено процес отримання, а також результати досліджень вольт-амперних, температурних та спектральних характеристик тонких плівок ZnO і ІТО. В п’ятому розділі розроблено стартап-проект, для запуску маштабного виробництва тонких плівок ІТО для космічних апаратів.uk
dc.format.page99 с.uk
dc.identifier.citationВенгер, О. А. Оксиди металів для фотовольтаїки, сформовані магнетронним методом : магістерська дис. : 153 Мікро- та наносистемна техніка / Венгер Олександр Анатолійович. – Київ, 2019. – 99 с.uk
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/30684
dc.language.isoukuk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорськогоuk
dc.publisher.placeКиївuk
dc.subjectтонкі плівкиuk
dc.subjectфотоелектричний елементuk
dc.subjectфотоелектричні перетворювачіuk
dc.subjectоксид цинкуuk
dc.subjectІТОuk
dc.subjectспектральні характеристикиuk
dc.titleОксиди металів для фотовольтаїки, сформовані магнетронним методомuk
dc.typeMaster Thesisuk

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
Venher_magistr.pdf
Розмір:
1.9 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
1.86 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: