Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии
Вантажиться...
Дата
2009
Автори
Науковий керівник
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Век+
Анотація
Опис
Ключові слова
Бібліографічний опис
Петренко А. И. Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии / А. И. Петренко, А. С. Молявко // Вісник НТУУ «КПІ». Інформатика, управління та обчислювальна техніка : збірник наукових праць. – 2009. – № 50. – С. 30–33. – Бібліогр.: 6 назв.