Мікроелектронні технології. Розрахунок параметрів іонного розпилення та іонної імплантації в програмі TRIM. Рекомендації до виконання розрахункової роботи
Вантажиться...
Дата
2026
Науковий керівник
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
КПІ ім. Ігоря Сікорського
Анотація
У навчальному посібнику наведено стислі теоретичні дані щодо фізики іонного розпилення та імплантації поверхонь мішені прискореними іонами. В розрахунково-графічній частині посібника наведено приклад обчислень параметрів іонного розпилення та іонної імплантацій шляхом траєкторного аналізу руху іонів в тілі мішені. Студентам пропонується зробити власні розрахунки та аналітичні висновки щодо отриманих результатів. Посібник призначений для здобувачів ступеня бакалавр за спеціальністю G5 Електроніка, електронні комунікації, приладобудування та радіотехніка, які вивчають іонне розпилення матеріалів та іонну імплантацію з дисциплін «Мікроелектронні технології», «Технологічні основи електроніки», а також буде корисним фахівцям в галузі модифікації поверхонь та приповерхневих шарів.
Опис
Ключові слова
Бібліографічний опис
Мікроелектронні технології. Розрахунок параметрів іонного розпилення та іонної імплантації в програмі TRIM [Електронний ресурс] : рек. до виконання розрахунк. роботи : навч. посіб. для здобувачів ступеня бакалавра за освіт. програмою «Електронні прилади та пристрої» спец. G5 Електроніка, електронні комунікації, приладобудування та радіотехніка / КПІ ім. Ігоря Сікорського ; уклад.: А. І. Кузьмичєв, С. Б. Сидоренко. – Електрон. текст. дані (1 файл: 2,98 Мбайт). – Київ : КПІ ім. Ігоря Сікорського, 2026. – 112 с. – Назва з екрана.