Aluminum oxynitride dielectric films prepared by reactive sputtering

Abstract

Description

Keywords

плівки оксинітриду алюмінію, магнетроне реактивне розпилення, електрична міцність, хімічна стійкість, термічна стабільність, aluminum oxynitride film, magnetron reactive sputtering, dielectric strength, chemical resistance, thermal stability, пленки оксинитрида алюминия, магнетронное реактивное распыление, электрическая прочность, химическая устойчивость, термическая стабильность

Citation

Aluminum oxynitride dielectric films prepared by reactive sputtering / A. Borisova, A. Machulyansky, M. Rodionov, V. Smilyk, Y. Yakimenko // Електроніка та зв'язок : науково-технічний журнал. – 2015. – Т. 20, № 3(86). – С. 31–36. – Бібліогр.: 13 назв.

DOI