Структура та оптичні властивості плівок ZnO:Al,N, осаджених при зміні напруги зміщення підкладки

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.advisorЄвтушенко, Арсеній Іванович
dc.contributor.authorЄлізарова, Валерія Юріївна
dc.date.accessioned2024-06-27T08:35:08Z
dc.date.available2024-06-27T08:35:08Z
dc.date.issued2024
dc.description.abstractМагістерська робота викладена на 103 сторінках, містить 3 розділи, 60 ілюстрацій, 10 таблиць та 83 літературних джерела. Метою даної роботи є встановлення впливу напруги зміщення на підкладці на структуру та оптичні властивості плівок ZnO:Al,N, вирощених радіочастотним магнетронним розпиленням на кремнієвих та скляних підкладках. Предметом дослідження є аналіз впливу електричної напруги, прикладеної до підкладки, на структурні та оптичні характеристики тонких плівок ZnO:Al,N. В першому розділі було детально розглянуто літературні джерела в яких описуються основні методи осадження плівок. В другому розділі описано технологію синтезу та методи дослідження зразків тонких плівок ZnO:Al,N. У третьому розділі представлені результати дослідження структурних та оптичних характеристик плівок ZnO:Al,N, вирощених при різних значеннях напруги зміщення. Показано, що прикладення напруги зміщення на підкладку в процесі росту плівок впливає на швидкість росту, на структуру та оптичні властивості плівок.
dc.description.abstractotherThe master's thesis is described on 103 pages, contains 3 chapters, 60 illustrations, 10 tables and 83 literary sources. The purpose of this work is to determine the effect of bias voltage on the substrate on the structure and optical properties of ZnO:Al,N films grown by radio frequency magnetron sputtering on silicon and glass substrates. The subject of the research is the analysis of the influence of the electric voltage applied to the substrate on the structural and optical characteristics of ZnO:Al,N thin films. In the first chapter, literary sources describing the main methods of film deposition were considered in detail. The second chapter describes the technology of synthesis and methods of research of samples of ZnO:Al,N thin films. The third section presents the results of the study of structural and optical characteristics of ZnO:Al,N films grown at different bias voltage values. It is shown that the application of a bias voltage to the substrate in the process of film growth affects the growth rate, the structure and optical properties of the films.
dc.format.extent103 с.
dc.identifier.citationЄлізарова, В. Ю. Структура та оптичні властивості плівок ZnO:Al,N, осаджених при зміні напруги зміщення підкладки : магістерська дис. : 153 Мікро- та наносистемна техніка / Єлізарова Валерія Юріївна. – Київ, 2024. – 103 с.
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/67530
dc.language.isouk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорського
dc.publisher.placeКиїв
dc.subjectмагнетронне розпилення
dc.subjectнапруга зміщення підкладки
dc.subjectрентгенівська дифракція
dc.subjectспектри пропускання
dc.subjectсканувальна електронна мікроскопія
dc.subjectZnO:Al N
dc.subjectmagnetron sputtering
dc.subjectsubstrate bias voltage
dc.subjectX-ray diffraction
dc.subjecttransmission spectra
dc.subjectscanning electron microscopy
dc.titleСтруктура та оптичні властивості плівок ZnO:Al,N, осаджених при зміні напруги зміщення підкладки
dc.typeMaster Thesis

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Yelizarova_magistr.pdf
Розмір:
4.49 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
8.98 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Магістерські роботи (МЕ)
Магістерські роботи