Вплив періоду модуляції на перебіг твердотільних реакцій в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti
Вантажиться...
Дата
2025
Науковий керівник
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
КПІ ім. Ігоря Сікорського
Анотація
Дипломна робота присвячена дослідженню початкових стадій аморфізації границь розділу в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti з різним періодом модуляції у вихідному стані та за умов низькотемпературного нагріву до 150 °С. Для досягнення поставленої мети обʼєктами дослідження є багатошарові нанорозмірні плівкові композиції Ni/Ti з періодами модуляції 20 нм, 30 нм та 60 нм, з загальною товщиною 60 нм, осаджені на підкладку Si(001) методом радіочастотного магнетронного розпорошення. Для визначення структурних та електрофізичних властивостей, напруженого стану використано рентгеноструктурний фазовий аналіз, рентгенографічний аналіз залишкових напружень, in-situ чотирьохзондову резистометрію. Показано, що метод чотирьохзондової резистометрії є ефективним способом аналізу початкових стадій аморфізації границь розділу в тонких плівках Ni/Ti. Встановлено, що зменшення періоду модуляції призводить до зменшення температурного коефіцієнту опору в результаті формування аморфного прошарку. Отримані результати можуть бути використані при розробці функціональних матеріалів для мікро- та наноелектромеханічних систем і нейтронної оптики.
Опис
Ключові слова
аморфізація, границі розділу, електричний опір, період модуляції, тонкоплівкові композиції, amorphization, electrical resistivity, interfaces, modulation period, thin film
Бібліографічний опис
Пальчековський, О. А. Вплив періоду модуляції на перебіг твердотільних реакцій в тонкоплівкових композиціях Ni/Ti : дипломна робота ... бакалавра : 132 Матеріалознавство / Пальчековський Олександр Андрійович. – Київ, 2025. – 76 с.