Технологія отримання розвинутої поверхні у вакуумному реакційному середовищі
Вантажиться...
Дата
2017
Науковий керівник
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
КПІ ім. Ігоря Сікорського
Анотація
Опис
Ключові слова
розвинута поверхня, термоіонне осадження, магнетронне розпилення, реакційний газ, developed surface, thermionic deposition, magnetron sputtering, reactionary gas, развитая поверхность, термоионное осаждение, магнетронное распыление, реакционный газ
Бібліографічний опис
Сидоренко, С. Б. Технологія отримання розвинутої поверхні у вакуумному реакційному середовищі / Сидоренко С. Б., Бевза О. М., Сидоренко Я. С. // Міжнародна науково-технічна конференція «Радіотехнічні поля, сигнали, апарати та системи» : матеріали конференції, 20-26 березня 2017 р., м. Київ, Україна / КПІ ім. Ігоря Сікорського, РТФ. – Київ : КПІ ім. Ігоря Сікорського, 2017. – С. 247–249. – Бібліогр.: 2 назви.