Структура та оптичні властивості плівок NiO

dc.contributor.advisorЯкименко, Юрій Іванович
dc.contributor.authorЯрмоленко, Олександр Андрійович
dc.date.accessioned2023-07-26T13:24:39Z
dc.date.available2023-07-26T13:24:39Z
dc.date.issued2023
dc.description.abstractРоботу викладено на 71 сторінці, вона містить 4 розділи, 36 ілюстрацій, 7 таблиць і 40 джерел в переліку посилань. Об’єктом дослідження є плівки оксиду нікелю. Предмет роботи – дослідження впливу параметрів вирощування плівок оксиду нікелю на їх характеристики. Мета роботи – дослідження впливу параметрів вирощування плівок оксиду нікелю на їх характеристики. В першому розділі подано огляд літератури, в якому наведена інформація про методи осадження плівок оксиду нікелю. Зосереджено увагу на методі магнетронного розпилення, його види та переваги використання. В другому розділі роботи представлено аналіз результатів досліджень впливу параметрів осадження на властивості плівок оксиду нікелю, наведені графіки залежностей та таблиці з даними. В третьому розділі описано технологію синтезу та методи дослідження зразків тонких плівок NiO. У четвертому розділі представлено аналіз результатів дослідження впливу параметрів вирощування (тиску кисню в камері осадження та потужності магнетрону) на структуру та оптичні властивості тонких плівок NiO. Проведено дослідження властивостей зразків методами рентгеноструктурного (XRD) та елементного (EDX) аналізів, атомно-силової мікроскопії (АСМ), досліджено спектри пропускання, розраховано оптичну ширину забороненої зони.uk
dc.description.abstractotherThe work is laid out on 69 pages, contains 4 sections, 37 illustrations, 7 a table and 39 a source in the list of references. The object of research is nickel oxide films. The subject of the work is the study of the influence of the growth parameters of nickel oxide films on their characteristics. The purpose of the work is to study the influence of the growth parameters of nickel oxide films on their characteristics. The first chapter presents a review of the literature, which provides information on methods of deposition of nickel oxide films. Attention is focused on the method of magnetron sputtering, its types and advantages. Another section of the work presents an analysis of the results of research on the influence of deposition parameters on the properties of nickel oxide films, graphs of dependencies and tables with data are given. The third chapter describes the technology of synthesis and methods of research of NiO thin film samples. The fourth chapter presents the analysis of the results of the study of the influence of growth parameters (oxygen pressure in the deposition chamber and magnetron power) on the structure and optical properties of NiO thin films. The properties of the samples were investigated using X-ray diffraction (XRD) and elemental (EDX) analysis, atomic force microscopy (AFM), transmission spectra were investigated, and the optical band gap was calculated.uk
dc.format.extent71 с.uk
dc.identifier.citationЯрмоленко, О. А. Структура та оптичні властивості плівок NiO : магістерська дис. : 153 Мікро- та наносистемна техніка / Ярмоленко Олександр Андрійович. – Київ, 2023. – 71 с.uk
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/58690
dc.language.isoukuk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорськогоuk
dc.publisher.placeКиївuk
dc.subjectNiOuk
dc.subjectмагнетронне розпиленняuk
dc.subjectструктураuk
dc.subjectоптичне пропусканняuk
dc.subjectmagnetron sputteringuk
dc.subjectstructureuk
dc.subjectoptical transmissionuk
dc.titleСтруктура та оптичні властивості плівок NiOuk
dc.typeMaster Thesisuk

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
Yarmolenko_magistr.pdf
Розмір:
4.53 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
9.1 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: