Вплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремнію
Вантажиться...
Дата
2017
Автори
Науковий керівник
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
КПІ ім. Ігоря Сікорського
Анотація
Методом комбінаційного розсіювання світла тонкоплівковими структурами Si-Sn-Si досліджено процеси індукованої оловом кристалізації аморфного кремнію під дією різних видів лазерного опромінення. Визначені співвідношення аморфної і кристалічної фаз кремнію та розміри кристалів Si, що утворюються в матриці аморфного Si під час одиночного імпульсу лазерного опромінення різної потужності. Експериментально визначені та проаналізовані залежності розмірів та концентрації нанокристалів Si від потужності лазерних імпульсів тривалістю 10 нс та 150 мкс з довжиною хвилі 535 нм та 1070 нм. Показано можливість ефективної оловом індукованої трансформації кремнію із аморфної фази в кристалічну за час порядку 10 нс в шарах а-Si товщиною 200 нм під дією лазерного світла. Теоретичний розрахунок просторового і часового розподілу температур в зоні дії лазерного променю використано для інтерпретації експериментальних результатів.
Опис
Ключові слова
лазерне випромінювання, кристали, кремній, кристалізація
Бібліографічний опис
Ольховик, І. В. Вплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремнію : дипломна робота ... бакалавра : 105 Прикладна фізика та наноматеріали / Ольховик Ілля Володимирович. – Київ, 2017. – 40 с.