Вплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремнію

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.advisorВоронов, Сергій Олександрович
dc.contributor.authorОльховик, Ілля Володимирович
dc.date.accessioned2023-10-17T10:30:04Z
dc.date.available2023-10-17T10:30:04Z
dc.date.issued2017
dc.description.abstractМетодом комбінаційного розсіювання світла тонкоплівковими структурами Si-Sn-Si досліджено процеси індукованої оловом кристалізації аморфного кремнію під дією різних видів лазерного опромінення. Визначені співвідношення аморфної і кристалічної фаз кремнію та розміри кристалів Si, що утворюються в матриці аморфного Si під час одиночного імпульсу лазерного опромінення різної потужності. Експериментально визначені та проаналізовані залежності розмірів та концентрації нанокристалів Si від потужності лазерних імпульсів тривалістю 10 нс та 150 мкс з довжиною хвилі 535 нм та 1070 нм. Показано можливість ефективної оловом індукованої трансформації кремнію із аморфної фази в кристалічну за час порядку 10 нс в шарах а-Si товщиною 200 нм під дією лазерного світла. Теоретичний розрахунок просторового і часового розподілу температур в зоні дії лазерного променю використано для інтерпретації експериментальних результатів.uk
dc.description.abstractotherWith the help of Raman scattering by thin film structures Si-Sn-Si method, tin induced crystallization of amorphic silicon under different kinds of laser radiation was researched. Amorphic and crystallic phases of Silicon ratio and size of Si crystals, that are formed in amorphic Si matrix during the single impulse of laser radiation with different capacity are determined. Dependence of size and concentration of Si nanocrystals upon the power of laser impulses with 10 ns, 150 mks duration and 535 nm, 1070 nm wavelength was experimentally determined and analyzed. The possibility of tin induced effective transformation of Silicon from amorphic phase into crystallic for around 10 ns in a-Si layers 200 nm thick under laser radiation. Theoretical calculation of spatial and temporal distribution of temperatures in the range of the laser beam is used for experimental results interpretation.uk
dc.format.extent40 с.uk
dc.identifier.citationОльховик, І. В. Вплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремнію : дипломна робота ... бакалавра : 105 Прикладна фізика та наноматеріали / Ольховик Ілля Володимирович. – Київ, 2017. – 40 с.uk
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/61493
dc.language.isoukuk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорськогоuk
dc.publisher.placeКиївuk
dc.subjectлазерне випромінюванняuk
dc.subjectкристалиuk
dc.subjectкремнійuk
dc.subjectкристалізаціяuk
dc.titleВплив лазерного випромінювання на формування нанокристалів при індукованій оловом кристалізації аморфного кремніюuk
dc.typeBachelor Thesisuk

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Olkhovyk_bakalavr.pdf
Розмір:
1.75 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
1.71 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Бакалаврські роботи (ПФ)
Бакалаврські роботи