Вплив параметрів низькоенергетичного йонного опромінення на структуру та фазовий склад нанорозмірних плівок Ni/Cu/Cr

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.advisorКруглов, Іван Олександрович
dc.contributor.authorГаврилів, Михайло Віталійович
dc.date.accessioned2023-08-07T09:14:36Z
dc.date.available2023-08-07T09:14:36Z
dc.date.issued2023
dc.description.abstractОб’єкт досліджень: тонкоплівкові композиції Ni/Cu/Cr з товщиною кожного шару 25 нм, осаджені на підкладки монокристалічного кремнію методом магнетронного розпорошення. Предмет дослідження: зміни структури, фазового та хімічного складу тонкоплівкових систем під час низькоенергетичного йонного опромінення. Мета роботи: встановлення впливу енергії, густини струму та тривалості низькоенергетичного йонного опромінення на структуру, фазовий та хімічний склад нанорозмірних систем Ni/Cu/Cr. Методи дослідження: рентгеноструктурний аналіз, Оже-електронна спектроскопія, скануюча електронна мікроскопія. Результати досліджень та їх новизна: Встановлено, що фазовий склад вихідної системи не змінюється за всіх використаних режимів йонної обробки. Визначено, що збільшення густини йонного струму з 4 мкА до 8⁠ мкА обумовлює більш інтенсивне розпорошення верхнього шару Ni, зменшення розміру його зерна, а також підвищення концентрації в проміжному шарі Cu. Встановлено, що підвищення енергії йонного пучка з 800 еВ до 1400 еВ призводить до утворення структурних дефектів в проміжному шарі. Показано, що для модифікації досліджуваних наноматеріалів більш доцільним є проведення йонної обробки з меншою енергією та більшою густиною струму.uk
dc.description.abstractotherThe object of the study: Ni/Cu/Cr thin-film composites with a thickness of each layer of 25 nm, deposited on monocrystalline silicon substrates by magnetron sputtering. The subject of the work: changes in the structure, phase and chemical composition of thin-film systems during low-energy ion treatment. Research aim: to establish the influence of energy, current density and duration of low-energy ion irradiation on the structure, phase and chemical composition of nanoscale Ni/Cu/Cr systems. Research methods: X-ray structural analysis, Auger electron spectroscopy, scanning electron microscopy. Research results and their novelty: It has been established that the phase composition of the initial system does not change under all used ion treatment regimes. It has been determined that increasing the ion current density from 4 μA/cm2 to 8 μA/cm2 leads to more intense sputtering of the top Ni layer, a decrease in its grain size, and an increase in the concentration in the intermediate Cu layer. It has been found that increasing the energy of the ion beam from 800 eV to 1400 eV leads to the formation of structural defects in the intermediate layer. It has been shown that for the modification of the investigated nanomaterials, it is more expedient to carry out ion treatment with lower energy and higher current density.uk
dc.format.extent79 с.uk
dc.identifier.citationГаврилів, М. В. Вплив параметрів низькоенергетичного йонного опромінення на структуру та фазовий склад нанорозмірних плівок Ni/Cu/Cr : дипломна робота ... бакалавра : 132 Матеріалознавство / Гаврилів Михайло Віталійович. – Київ, 2023. – 79 с.uk
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/58986
dc.language.isoukuk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорськогоuk
dc.publisher.placeКиївuk
dc.subjectйонне опроміненняuk
dc.subjectнанорозмірні плівкові композиціїuk
dc.subjectструктурно-фазові перетворенняuk
dc.titleВплив параметрів низькоенергетичного йонного опромінення на структуру та фазовий склад нанорозмірних плівок Ni/Cu/Cruk
dc.typeBachelor Thesisuk

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Havryliv_bakalavr.pdf
Розмір:
5.75 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
9.1 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Бакалаврські роботи (ФМТО)
Бакалаврські роботи