Вплив матеріалу підкладки на морфологію, електрофізичні та трибологічні властивості тонкоплівкового аморфного вуглецю

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.advisorОрлов, Андрій Костянтинович
dc.contributor.authorШкоденко, Костянтин Володимирович
dc.date.accessioned2025-01-24T12:18:25Z
dc.date.available2025-01-24T12:18:25Z
dc.date.issued2024
dc.description.abstractОб’єкт досліджень: нанорозмірні плівкові вуглецеві аморфні матеріали, осаджені на підкладки з полірованого монокристалічного Si(100), ситалу та скла методом електродугового розпорошення в вакуумі. Предмет дослідження: термічна стабільність та адгезійна міцність аморфних вуглецевих плівок на різних підкладках в умовах низькотемпературного відпалу. Мета роботи: дослідити вплив матеріалу підкладки на термічну стабільність, зміну морфології поверхні та адгезійної міцності після термічної обробки аморфних вуглецевих тонкоплівкових матеріалів. Методи дослідження: чотирьохзондова резистометрія, оптична мікроскопія, скануюча електронна мікроскопія, рентгеноструктурний фазовий аналіз. Результати досліджень та їх новизна: термічна обробка аморфного вуглецю за температури 200 °C суттєво зменшує електроопір, збільшує адгезію, не впливаючи на морфологію поверхні. Сфера застосування: мікро- та наноелектроніка, захисне покриття в агресивних середовищах, фотовольтаїка.
dc.description.abstractotherObject of research: nanoscale amorphous carbon film materials deposited on Si(100), sital and glass substrates by the method of electric arc sputtering. Subject of research: thermal stability of amorphous carbon films on various substrates. Purpose of the study: to identify the influence of the substrate on thermal stability, change in surface morphology and adhesion to the substrate after heat treatment of amorphous carbon thin film materials. Research methods: resistivity, optical microscopy, scanning electron microscopy, X-ray structural phase analysis. Research results and novelty: thermal treatment of amorous carbon at a temperature of 200 °C significantly reduces electrical resistance, increases adhesion, without affecting the surface morphology. Field of application: micro- and nanoelectronics, protective coating in aggressive environments, photovoltaics.
dc.format.extent71 с.
dc.identifier.citationШкоденко, К. В. Вплив матеріалу підкладки на морфологію, електрофізичні та трибологічні властивості тонкоплівкового аморфного вуглецю : магістерська дис. : 132 Матеріалознавство / Шкоденко Костянтин Володимирович. – Київ, 2024. - 71 с.
dc.identifier.urihttps://ela.kpi.ua/handle/123456789/72175
dc.language.isouk
dc.publisherКПІ ім. Ігоря Сікорського
dc.publisher.placeКиїв
dc.subjectадгезія
dc.subjectаморфний вуглець
dc.subjectтермічна обробка
dc.subjectтонкоплівкові матеріали
dc.subjectрезистометрія
dc.titleВплив матеріалу підкладки на морфологію, електрофізичні та трибологічні властивості тонкоплівкового аморфного вуглецю
dc.typeMaster Thesis

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Shkodenko_mahistr.pdf
Розмір:
2.79 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
8.98 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Магістерські роботи (ФМТО)
Магістерські роботи